<div dir="ltr"><div class="gmail_extra"><div class="gmail_quote">On Thu, Feb 15, 2018 at 5:52 PM,  <span dir="ltr"><<a href="mailto:jamesd@echeque.com" target="_blank">jamesd@echeque.com</a>></span> wrote:<br><blockquote class="gmail_quote" style="margin:0 0 0 .8ex;border-left:1px #ccc solid;padding-left:1ex"><br>
We need something better than 190 nanometer photolithography.</blockquote><div><br></div><div>Surely you have access to an <a href="https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433200003524">electron beam device capable of 10nm</a>?<br></div><div> <br></div><div>The cost per device created will be 1000x higher than for bulk CMOS and standard UV lithography, but why would you care?<br></div></div></div></div>